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產(chǎn)地類別	國產(chǎn)	價格區(qū)間	100萬-150萬
應用領(lǐng)域	綜合

雙腔室高真空等離子體ALD系統(tǒng)是對ALD技術(shù)的擴展，通過等離子體的引入，產(chǎn)生大量活性自由基，增強了前驅(qū)體物質(zhì)的反應活性，從而拓展了ALD對前驅(qū)源的選擇范圍和應用要求，縮短了反應周期的時間，同時也降低了對樣品沉積溫度的要求，可以實現(xiàn)低溫甚至常溫沉積，特別適合于對溫度敏感材料和柔性材料上的薄膜沉積。