VTC-600-3HD三靶磁控濺射儀

具體成交價以合同協(xié)議為準(zhǔn)

公司名稱 沈陽科晶自動化設(shè)備有限公司
品牌 其他品牌
型號
產(chǎn)地沈陽
廠商性質(zhì) 生產(chǎn)廠家
更新時間 2025/7/16 10:55:23
訪問次數(shù) 2306

產(chǎn)品標(biāo)簽

三把磁控濺射儀磁控濺射儀濺射儀高真空三靶磁控濺射儀 VTC-600-3HD

在線交流發(fā)送詢價進(jìn)入商鋪同類產(chǎn)品

聯(lián)系方式：吳女士15640436639 查看聯(lián)系方式

聯(lián)系我們時請說明是化工儀器網(wǎng)上看到的信息，謝謝!

索取相關(guān)資料

公司介紹 主營產(chǎn)品

　　沈陽科晶立足國內(nèi)市場實際情況，以提供Z為實用的產(chǎn)品為己任。產(chǎn)品的質(zhì)量、精度在向國外企業(yè)看齊的基礎(chǔ)上，產(chǎn)品的價格定位卻僅僅是其幾分之一。性價比不僅吸引了眾多國內(nèi)客戶，而且令挑剔的外國客商也稱贊不已，產(chǎn)品遠(yuǎn)銷于印度、馬來西亞、土耳其、波蘭、突尼斯、澳大利亞等國家，并大量出口于美國。

　　沈陽科晶為了更好地服務(wù)客戶，專門設(shè)立了開放式專業(yè)實驗室，配備了優(yōu)秀的專業(yè)技術(shù)人員。在這里，不僅可以提供親身的產(chǎn)品體驗環(huán)境，而且還可得到專業(yè)人員的操作指導(dǎo)。開設(shè)以來，制作的樣品達(dá)上千件，接待來訪客參觀戶百余次，其中包括多次外國友人的來訪。在此，沈陽科晶全體員工誠摯地歡迎您的到來，并希望您能提出寶貴的意見與建議。

　　沈陽科晶一路走過的歷程，是為我國材料研究事業(yè)全力貢獻(xiàn)的歷程，是以實際行動將自己打造成國內(nèi)材料分析設(shè)備品牌的歷程，是與國外同行不斷縮小差距的歷程，是與廣大客戶相扶相持的成長歷程。雖一路充滿坎坷與荊棘，但堅持不懈的沈陽科晶人仍全力以赴的前行。秉承這份堅持，相信在不久的將來，沈陽科晶也將會成為市場上專業(yè)的、杰出的材料分析設(shè)備品牌，沈陽科晶的明天會更加燦爛輝煌。

★我們擁有同類型中優(yōu)質(zhì)性價比的產(chǎn)品！　　　　　　　　　　　　　　　　　

　　您正在為材料與設(shè)備無從下手而焦急嗎？

★歡迎來到沈陽科晶，我們是國內(nèi)實驗室樣品制備設(shè)備領(lǐng)域的專家！

展開

切割機，金剛石線切割機，研磨拋光機，提拉涂膜機，旋轉(zhuǎn)涂膜機，真空鍍膜機，管式爐，箱式爐，電池實驗研究設(shè)備，清洗機

詳細(xì)信息 在線詢價

產(chǎn)地類別	國產(chǎn)	應(yīng)用領(lǐng)域	地礦

產(chǎn)品簡介 VTC-600-3HD三靶磁控濺射儀

VTC-600-3HD三靶磁控濺射儀是新自主研制開發(fā)的鍍膜設(shè)備，可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜、半導(dǎo)體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學(xué)薄膜、氧化物薄膜、硬質(zhì)薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。VTC-600-3HD三靶磁控濺射儀配置三個靶槍，一個配套射頻電源用于非導(dǎo)電靶材的濺射鍍膜，兩個配套直流電源用于導(dǎo)電性材料的濺射鍍膜。與同類設(shè)備相比，其不僅應(yīng)用廣泛，且具有體積小便于操作的優(yōu)點，是一款實驗室制備材料薄膜的理想設(shè)備，特別適用于實驗室研究固態(tài)電解質(zhì)及OLED等。

主要特點

配置三個靶槍，一個配套射頻電源用于非導(dǎo)電靶材的濺射鍍膜，兩個配套直流電源用于導(dǎo)電性材料的濺射鍍膜（靶槍可以根據(jù)客戶需要任意調(diào)換）。
可制備多種薄膜，應(yīng)用廣泛。
體積小，操作簡便。
整機模塊化設(shè)計，真空腔室、真空泵組、控制電源分體式設(shè)計，可根據(jù)用戶實際需要調(diào)整。
可根據(jù)用戶實際需要選擇電源，可以一個電源控制多個靶槍，也可多個電源單一控制靶槍。

技術(shù)參數(shù) VTC-600-3HD三靶磁控濺射儀

產(chǎn)品名稱	VTC-600-3HD三靶磁控濺射儀
產(chǎn)品型號	VTC-600-3HD
安裝條件	1、工作臺需要：尺寸 L1300mm×W750mm×H700mm，承重 200kg 以上。 2、水：需求：隨機標(biāo)配 KJ-5000 自循環(huán)冷水機（加注純凈水或者去離子水）。 3、氣：需氬氣（純度≥99.99%），自備氬氣瓶（自帶?6mm 雙卡套接頭）及減壓閥。 4、通風(fēng)裝置：使用現(xiàn)場需通風(fēng)（必要時可自行加裝換氣裝置）。 5、供電源：單相：AC220V 50Hz 國標(biāo) 10A 插座，必須有良好接地，前端需加裝 16A 空氣開關(guān)。 6、現(xiàn)場環(huán)境：要求：溫度 25℃±15℃，濕度 55%Rh±10%Rh 以下，干燥無塵，無易燃易爆氣體。
主要參數(shù)	真空系統(tǒng)	真空室尺寸	φ295×高 265mm	備注說明
		真空泵組	分子泵：Hipace80 渦輪泵前級泵：MVP015-2DC 隔膜泵	浦發(fā)（Pfeiffer）
		本底真空度	5.0E-3Pa(5.0E-5hPa)	沉積前基礎(chǔ)真空要求
		極限真空度	5.0E-4Pa(5.0E-6hPa)	受現(xiàn)場環(huán)境等因素影響
		工作壓力	0.1~5Pa(0.001~0.05hPa)	氬氣為主，反應(yīng)氣體比例添加
		抽速	前級泵：1 m3/h 分子泵：67 l/s	影響抽真空時間
	電源配置	濺射電源類型/數(shù)量	DC（直流）：2臺 RF（射頻）：1臺	DC：金屬靶 RF：絕緣靶（搭配電源類型可選配）
		輸出功率范圍	DC：0~500W RF：0~300W	功率輸出模式 MAX輸出功率
		匹配阻抗	50Ω	確保功率傳輸效率
	氣體控制	工作氣體	標(biāo)配：氬氣（Ar）	建議使用：Ar 純度 99.999%
		氬氣流量 (2路輸入）	1路：1~100sccm 1路：1~200sccm	注：如需要通入其它類型保護(hù)氣體可定制
		流量計精度	±1%F.S.	/
	旋轉(zhuǎn) 樣品臺	樣品臺尺寸	Φ132mm	≈5.2 英寸
		樣品臺轉(zhuǎn)速	1~20rpm	提升膜厚均勻性
		加熱溫度	RT~500℃	樣品臺表面溫度值
		控溫精度	±1℃	/
	磁控濺射靶	磁控靶數(shù)量	3個	可獨立、可同時使用
		靶材尺寸	φ2寸厚度0.1-5mm	靶材材質(zhì)不同厚度有所不同
		靶基距	85~115mm可調(diào)	當(dāng)距離↑增大、→厚膜均勻性↑增高，沉積速率↓下降。
		冷卻方式	水冷	冷卻水循環(huán)靶頭降溫
	沉積性能與其它參數(shù)	厚膜均勻性	±5%（φ100mm基片）	靶基距和轉(zhuǎn)速優(yōu)化關(guān)鍵
		極限膜厚	10nm~10um	過厚易應(yīng)力開裂
		輸入功率	MAX:主機 500W/射頻電源 1100W/直流電源 750W	注：主機、射頻電源、直流電源及膜厚儀均為獨立供電！
		輸入電源	單相： AC220V 50/60Hz	注：主機、射頻電源、直流電源及膜厚儀均為獨立供電！
		主機尺寸	600mm×750mm×900mm	注：開蓋高度為1050mm
		整機尺寸	1300m×750mm×900mm	注：開蓋高度為1050mm
		整機重量	160kg	注：不含水冷機組

標(biāo)準(zhǔn)配件 VTC-600-3HD三靶磁控濺射儀

序號	名稱	數(shù)量	圖片鏈接
1	直流電源控制系統(tǒng)	2套	-
2	射頻電源控制系統(tǒng)	1套	-
3	膜厚監(jiān)測儀系統(tǒng)	1套	-
4	分子泵（德國進(jìn)口或者國產(chǎn)更大抽速）	1臺	-
5	冷水機	1臺	-
6	聚酯PU管（?6mm）	4m	-

可選配件

序號	名稱	功能類別	圖片鏈接
1	金、銦、銀、鉑等各種靶材	（可選）	-
2	可選配強磁靶用于鐵磁性材料的濺射鍍膜	（可選）	-
3	掩膜版	（可選）	-
4	振動樣品臺	（可選）	-
5	雙層旋轉(zhuǎn)鍍膜夾具	（可選）