PICOSUN™R-200標準型ALD系統(tǒng)是ALD科研  設(shè)備市場。它已經(jīng)成為一些創(chuàng)新公司 和研究機構(gòu)的研發(fā)工具。

靈活的設(shè)計確保沉積高質(zhì)量的ALD薄膜，超靈活的系統(tǒng)配置也能滿足用戶未來的需求和應用。的熱壁設(shè)計、*獨立的前驅(qū)體管 路和特殊的載氣設(shè)計，使得無顆粒沉積廣泛應用于平面晶圓、3D基片和所有納米尺度的  材料。即使在挑戰(zhàn)性的多孔材料、超高深 寬比和納米顆粒表面沉積， 系統(tǒng)都能實現(xiàn)好的均勻性， 這些都歸功于我們的技術(shù)  Picoflow™。PICOSUN™R-200標準型系統(tǒng)配備功 能強大和易于更換的液體、氣體和固體前驅(qū)體 源。系統(tǒng)可集成手套箱， 粉末反應腔和各種在 線分析系統(tǒng)， 使您的研究變得高效和靈活。 即 使將來您改變研究領(lǐng)域， 它仍然會是好  的幫手！

技術(shù)參數(shù)：

襯底尺寸和類型

•   50-200 mm/片

•   156 mm x 156 mm太陽能硅片

•   3D 復雜表面襯底

•   粉末與顆粒

•    小批量

•    多孔， 通孔， 高深寬比（HAR）樣品 （高可達1:2500）

工藝溫度

•    50 – 500°C

沉積材料

•    Al2O3, TiO2, SiO2, Ta2O5, HfO2, ZnO, ZrO2, AlN, TiN, 以及金屬 Pt 或者 Ir

基片加載

•    氣動升降，手動加載

•    預真空室安裝磁力操作機械手（Load lock）

前驅(qū)體

•    液態(tài)， 固態(tài)， 氣態(tài)， 臭氧源

•    4根獨立源管線， 多加載6個前驅(qū)體源

選件

•     PICOFLOW™擴散增強器， RGA、N2發(fā)生器、尾氣處理器、定制設(shè)計，手套箱集成（用于惰性氣體下裝載）