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PLUTO-MD(8L) 小型等離子去膠機(jī)廠家

具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)

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上海沛沅儀器是一家集等離子體技術(shù)設(shè)計(jì)、制造、產(chǎn)品開發(fā)、銷售與服務(wù)于一體的技術(shù)型企業(yè),公司致力于提供專業(yè)的等離子表面處理系統(tǒng),比如等離子清洗機(jī),等離子去膠機(jī),等離子刻蝕機(jī),實(shí)驗(yàn)室等離子處理機(jī)等,向用戶提供國內(nèi)等離子表面處理設(shè)備和優(yōu)質(zhì)專業(yè)的服務(wù)。

公司技術(shù)團(tuán)隊(duì)67%以上具備碩士或碩士以上學(xué)位,公司由長期從事等離子體應(yīng)用技術(shù)研究開發(fā)、多次參與國家重大科學(xué)工程研究的專家和產(chǎn)業(yè)化專家聯(lián)合創(chuàng)建,提供一系列等離子體表面處理系統(tǒng)、等離子體刻蝕系統(tǒng)、常壓等離子清洗設(shè)備等,并與中科院上海應(yīng)用物理研究所,復(fù)旦大學(xué),中國科技大學(xué),上??萍即髮W(xué),上海交通大學(xué)等建立了密切的技術(shù)合作交流關(guān)系。

 

公司的愿景是成為等離子體應(yīng)用領(lǐng)域的優(yōu)質(zhì)供應(yīng)企業(yè),用科研的沉淀和應(yīng)用的創(chuàng)新,為中國的制造業(yè)崛起和化戰(zhàn)略貢獻(xiàn)一份力量。

 

 

 

 

等離子清洗機(jī),真空等離子清洗機(jī),等離子去膠機(jī),等離子表面處理機(jī),等離子刻蝕機(jī),實(shí)驗(yàn)室等離子清洗機(jī),小型等離子清洗機(jī),大氣等離子清洗機(jī),等離子鍍膜機(jī)

等離子去膠機(jī)

          PLUTO-MD(8L)小型等離子去膠機(jī)介紹:
 
  去膠工藝是微加工過程中一個(gè)重要的過程,在電子束曝光,紫外曝光等微納米加工工藝后,都要對光刻膠進(jìn)行去除或打底膜處理。光刻膠是否去除干凈對樣片是否有損傷等問題,將直接影響后續(xù)工藝的順利完成。PLUTO-MD使用性能出色的組件和軟件,可對工藝參數(shù)進(jìn)行精確控制。它的工藝監(jiān)測和數(shù)據(jù)采集軟件可實(shí)現(xiàn)嚴(yán)格的質(zhì)量控制。該技術(shù)已經(jīng)成功的應(yīng)用于功率晶體管、模擬器件、傳感器、光學(xué)器件、光電、EMS/MOEMS、生物器件、LED等領(lǐng)域。

等離子去膠機(jī)

 

等離子去膠機(jī)

 
  PLUTO-MD(8L)小型等離子去膠機(jī)特點(diǎn):
 
  1. 桌面型,普通實(shí)驗(yàn)臺(tái)即可安置。操作簡便上手快、使用成本極低、易于維護(hù)。
 
  2.適合于4~6寸硅片及相同面積去膠,可選配硅片專用托盤。
 
  3.內(nèi)置雙層氣浴電極,有效提高清洗效率。配有節(jié)流閥,防止真空泵油霧回流??蛇x配耐用電極,降低長時(shí)間使用后的腔體污染。
 
  4.配置200W/13.56MHz等離子發(fā)生器。兼顧物理作用和化學(xué)作用。
 
  5.具備前后吹掃功能,保證樣品處理潔凈度,可配置獨(dú)立吹掃氣路。
 
  6.可選配電極間距可調(diào),對各種幾何形狀、表面粗糙程度各異的金屬、陶瓷、玻璃、硅片、塑料等物件表面進(jìn)行超清洗和表面改性。
 
等離子去膠機(jī)

           PLUTO-MD(8L)小型等離子去膠機(jī)參數(shù):
 
等離子去膠機(jī)參數(shù)

           
        小型等離子去膠機(jī)應(yīng)用: 
等離子去膠機(jī)


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