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GNP GPC-300A 全自動CMP晶圓清洗一體機(jī)

具體成交價以合同協(xié)議為準(zhǔn)

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深圳市矢量科學(xué)儀器有限公司是集半導(dǎo)體儀器裝備代理及技術(shù)服務(wù)的高新技術(shù)企業(yè)。

致力于提供半導(dǎo)體前道制程工藝裝備、后道封裝裝備、半導(dǎo)體分析測試設(shè)備、半導(dǎo)體光電測試儀表及相關(guān)儀器裝備維護(hù)、保養(yǎng)、售后技術(shù)支持及實(shí)驗(yàn)室整體服務(wù)。

公司目前已授實(shí)用新型權(quán)利 29 項(xiàng),軟件著作權(quán) 14 項(xiàng),是創(chuàng)新型中小企業(yè)、科技型中小企業(yè)、規(guī)模以上工業(yè)企業(yè)。










冷熱臺,快速退火爐,光刻機(jī),納米壓印、磁控濺射,電子束蒸發(fā)

規(guī)格:

拋光機(jī)部分機(jī)頭,工作臺:30- 200rpm,旋轉(zhuǎn)運(yùn)動,機(jī)頭振蕩(±15mm)

拋光機(jī)尺寸:1626 *1500 *1950毫米

重量:2500公斤壓板尺寸:Φ 762毫米(30英寸),特氟龍涂層鋁

壓制方式:可變空氣

壓力電子控制器膜類型:70-350/平方厘米(1 psi~5 psi)12"晶圓片

CMP制程:Si CMP、氧化物CMP(BPSG、TEOS、SC)、金屬CMP(W、Cu)、STI、PGI

可添加選項(xiàng)

墊式調(diào)理方法:擺頭式或擺臂式

單頭或雙頭系統(tǒng)

摩擦力和溫度監(jiān)測系統(tǒng)

清潔:

清洗機(jī)尺寸:w3050 / d1250 / h1960毫米

重量:1200公斤電刷尺寸:270(外徑)032(內(nèi)徑)320()毫米

配置:獨(dú)立配置4個清洗工位,DIW刀預(yù)清洗,2個雙面滾刷清洗,N2吹旋漂干

預(yù)清洗工位:DIW噴霧清洗,工位間DIW帷幕清洗

輥刷工位

化學(xué):nh4oh<1%)或DIW

刷型:雙面PVA

轉(zhuǎn)速:<滿量程的±2%范圍30~300rpm

化學(xué)品供應(yīng):4個噴嘴和通過刷子

可用化學(xué):4化學(xué)

化學(xué)品流量:滿量程< 1l /min

DI流量:滿量程< 10l /min

轉(zhuǎn)站

旋轉(zhuǎn)速度:最高2500轉(zhuǎn)/

DIW沖洗/ N2(可選:強(qiáng))

控制

工藝:自動上片,自動順序,濕進(jìn)/干出

程序控制:PC &觸摸屏監(jiān)控,程序可編程,計算機(jī)網(wǎng)絡(luò)可比



1. 規(guī)格

拋光機(jī)部分機(jī)頭,工作臺:30- 200rpm,旋轉(zhuǎn)運(yùn)動,機(jī)頭振蕩(±15mm)

拋光機(jī)尺寸:1626 *1500 *1950毫米

重量:2500公斤壓板尺寸:Φ 762毫米(30英寸),特氟龍涂層鋁

壓制方式:可變空氣

壓力電子控制器膜類型:70-350/平方厘米(1 psi~5 psi)12"晶圓片

CMP制程:Si CMP、氧化物CMP(BPSG、TEOSSC)、金屬CMP(WCu)、STIPGI

2. 可添加選項(xiàng)

墊式調(diào)理方法:擺頭式或擺臂式

單頭或雙頭系統(tǒng)

摩擦力和溫度監(jiān)測系統(tǒng)

3. 清潔

清洗機(jī)尺寸:w3050 / d1250 / h1960毫米

重量:1200公斤電刷尺寸:270(外徑)032(內(nèi)徑)320()毫米

配置:獨(dú)立配置4個清洗工位,DIW刀預(yù)清洗,2個雙面滾刷清洗,N2吹旋漂干

預(yù)清洗工位:DIW噴霧清洗,工位間DIW帷幕清洗

輥刷工位

化學(xué):nh4oh<1%)或DIW

刷型:雙面PVA

轉(zhuǎn)速:<滿量程的±2%范圍30~300rpm

化學(xué)品供應(yīng):4個噴嘴和通過刷子

可用化學(xué):4化學(xué)

化學(xué)品流量:滿量程< 1l /min

DI流量:滿量程< 10l /min

轉(zhuǎn)站

旋轉(zhuǎn)速度:2500轉(zhuǎn)/

DIW沖洗/ N2(可選:強(qiáng)掃)

控制

工藝:自動上片,自動順序,濕進(jìn)/干出

程序控制:PC &觸摸屏監(jiān)控,程序可編程,計算機(jī)網(wǎng)絡(luò)可比



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