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KaRon 設備 部件鍍膜設備

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深圳市矢量科學儀器有限公司是集半導體儀器裝備代理及技術服務的高新技術企業(yè)。

致力于提供半導體前道制程工藝裝備、后道封裝裝備、半導體分析測試設備、半導體光電測試儀表及相關儀器裝備維護、保養(yǎng)、售后技術支持及實驗室整體服務。

公司目前已授實用新型權利 29 項，軟件著作權 14 項，是創(chuàng)新型中小企業(yè)、科技型中小企業(yè)、規(guī)模以上工業(yè)企業(yè)。










冷熱臺，快速退火爐，光刻機，納米壓印、磁控濺射，電子束蒸發(fā)

本裝置是一款在真空環(huán)境下對產品外部進行非導電體涂層的專業(yè)Coating設備。其核心特點包括：

真空環(huán)境操作：
設備在真空狀態(tài)下運行，確保涂層過程不受外界雜質干擾，保證涂層質量。
自傳與公轉結合：
產品在真空室內不僅進行自轉，還同時進行公轉運動，這種復合運動方式有助于實現(xiàn)均勻且致密的涂層效果。
精確控制膜厚度：
設備具備精確的控制機制，能夠確保涂層保持一定的厚度，滿足不同的生產需求。
綜上所述，本裝置作為一款先進的真空Coating設備，通過其自轉與公轉結合的運動方式，以及精確的膜厚度控制能力，為產品外部非導電體涂層提供了高效、高質量的解決方案

設備構成Thermal Evaporation
到達真空3 x 10-6 Torr
排氣構成D/P + MBP + Rotary Pump
產品回轉真空內自轉,公轉驅動
Sputter TargetSUS,Ni,Al,Sn,Ti
Cycle Time8~12 min





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