光學(xué)散射表面缺陷檢測(cè)儀器W8P1描述：

光學(xué)散射表面缺陷檢測(cè)儀器具備明場(chǎng)、暗場(chǎng)以及缺陷自動(dòng)分類檢測(cè)技術(shù)。采用藍(lán)光高亮光源與635nm高功率激光光源，結(jié)合高分辨率物鏡成像與光電倍增管非成像探測(cè)，針對(duì)表面裂紋、麻點(diǎn)、破邊、顆粒、水潰等缺陷表現(xiàn)較好。專注于光滑表面樣品缺陷檢測(cè)，可以應(yīng)用于半導(dǎo)體元件（ sI / GaN / SIC 等）與其他光學(xué)元件（光學(xué)鏡片／玻璃等）等領(lǐng)域。

光學(xué)散射表面缺陷檢測(cè)儀器W8P1功能：

高度定制化服務(wù)

可定制照明光源、可定制鏡頭倍率、模塊化設(shè)計(jì)、開放式接口、自定義工作流程和業(yè)務(wù)參數(shù)

同時(shí)測(cè)量

同時(shí)支持樣品高透與高反區(qū)域測(cè)量

光學(xué)分辨率

優(yōu)于1μm，較高可達(dá) 0.5 μm

檢測(cè)靈敏度

優(yōu)于70nm

多角度

自定義多角度檢測(cè)

極低漏檢率

光電倍增管檢測(cè)整體均勻性特征結(jié)合 CMOS 檢測(cè)局部缺陷特征，極大降低漏檢率

智能化篩選

智能化篩選較優(yōu)無缺陷區(qū)域

超高安全性

軟件集成度高、靈活性強(qiáng)、提供管理員和操作員模式，確保系統(tǒng)安全性

產(chǎn)品特點(diǎn)：

工作原理  基于散射顯微成像檢測(cè)原理