小型臺式 ALD（原子層沉積）工具專為簡單的操作和安裝而設計，而不會犧牲其性能，用于成本效益型研究與開發(fā)。

采用半導體級元件、金屬密封線和強大的PLC驅動用戶界面，可快速循環(huán)和高品質的多組分薄膜，易于維護，可重復和安全運行。

技術參數(shù)：

l 占地面積小桌面式ALD系統(tǒng)

l 可容納直徑為 4 /6/8英寸的樣品

l 可定制的卡盤(大型和批處理室(3+芯片)可供選擇)

l 兼容高溫的快速脈沖 ALD 閥，帶超快 MFC，用于集成惰性氣體吹掃標準

l 全鋁腔體，溫度范圍可達 315°C

l 靜態(tài)處理模式下提供高曝光

l 7英寸顯示屏，帶集成PLC控制

選項:定制卡盤/壓板，定制異形腔室，真空泵臭氧發(fā)生器(AT-03)，瓶加熱器，通風前驅體外殼，ALD前驅體集成QCM，手套箱集成，HT套件(前驅體至180°C)，起泡器，12英寸，需要更大尺寸可咨詢。升級到等離子體。定制系統(tǒng)。

設備優(yōu)勢

Ø 廠家是ALD領域的專家

Ø 高品質組件（半導體級線路、閥門、金屬密封（無水或空氣侵入））

Ø 可信賴（PLC控制-無需驅動程序升級，無需附加卡）和可靠（非常容易維護）

Ø 是為實驗室技術人員設計的

Ø 小而緊湊的（不占空間）

Ø 小體積室意味著快速沉積和更少的前驅體廢物和深入滲透到三維結構

Ø 快速升溫（和降溫）時間

Ø 化學物質與反應物分離，因此不會沉積在管道，閥門等....

Ø 前驅體和腔體之間的長度短（減少線路堵塞的機會）

Ø 操作簡單（150個菜單連同標準配方）

為啥選擇Anric Technology???

  世界主流的ALD廠家，如ASM International N.V.， Beneq，Picosun， Oxford Instruments，TEL等，這些大廠專注于工業(yè)化的ALD設備。

Anric Technology： 專注于小的迷你的、臺式的ALD設備，操作簡單，維修經(jīng)濟方便，特別適用于科研用戶。

研發(fā)者介紹：

Philippe de Rouffignac， Ph.D 畢業(yè)于Harvard University，Department of Chemistry，導師Prof. Roy Gordon, 在讀博期間就設計開發(fā)了幾臺ALD設備，并在哈佛Center for Nanoscale Systems工作，期間進行了包括CVD/ALD預制器的開發(fā)，后出來創(chuàng)辦了Anric Technology，專注于迷你和臺式用于實驗室研究的ALD。