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化工儀器網(wǎng)>產(chǎn)品展廳>半導(dǎo)體行業(yè)專(zhuān)用儀器>光刻及涂膠顯影設(shè)備>有掩模光刻機(jī)> Model 200 紫外掩膜曝光機(jī)

舉報(bào) 評(píng)價(jià)

Model 200 紫外掩膜曝光機(jī)

具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)

公司名稱(chēng) 德國(guó)韋氏納米系統(tǒng)有限公司
品牌 OAI
型號(hào)
產(chǎn)地 美國(guó)
廠商性質(zhì) 生產(chǎn)廠家
更新時(shí)間 2025/7/4 10:38:11
訪問(wèn)次數(shù) 73

產(chǎn)品標(biāo)簽

OAI 光刻機(jī)

在線交流發(fā)送詢價(jià) 進(jìn)入商鋪同類(lèi)產(chǎn)品

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FIRSTNANO成立于2012年，一家由三位材料學(xué)博士共同創(chuàng)辦的德國(guó)公司?；?/span> “Science is international”的想法，“全球協(xié)同實(shí)驗(yàn)室”成為三位博士追逐的夢(mèng)想。

公司愿景是從科學(xué)家到科學(xué)家，科學(xué)開(kāi)創(chuàng)美好未來(lái)。

FIRSTNANO深耕于半導(dǎo)體技術(shù)、材料科學(xué)、生命科學(xué)等科研領(lǐng)域，始終秉承“前沿、專(zhuān)業(yè)、科學(xué)”的宗旨，將前沿技術(shù)引進(jìn)到協(xié)同實(shí)驗(yàn)室。我們的產(chǎn)品覆蓋了微納加工制程；材料科學(xué)的檢測(cè)、分析；生命科學(xué)成像，腦科學(xué)與行為認(rèn)知等相關(guān)領(lǐng)域。作為全球科技前沿的儀器供應(yīng)商，FIRSTNANO具有全球技術(shù)視野、優(yōu)質(zhì)供應(yīng)體系、以及嚴(yán)格的質(zhì)量管控系統(tǒng)，能為客戶提供前沿的技術(shù)解決方案。

公司服務(wù)的客戶領(lǐng)域廣泛，其中包括消費(fèi)電子、航空、航天、醫(yī)藥技術(shù)、半導(dǎo)體行業(yè)、光電子行業(yè)、高校和研究機(jī)構(gòu)。

在成長(zhǎng)的過(guò)程中，我們腳踏實(shí)地、奮勇向前。自2015年香港（中華區(qū)）公司成立以來(lái)，我們一相繼在香港、深圳、上海和武漢設(shè)立了分支機(jī)構(gòu)。

我們真誠(chéng)邀請(qǐng)業(yè)內(nèi)英才加入FIRSTNANO TEAM，一起為夢(mèng)想揚(yáng)帆起航！

展開(kāi)

半導(dǎo)體儀器和電子產(chǎn)品耗材耗材

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Model 200 紫外掩膜曝光機(jī)

Model 200 紫外掩膜曝光機(jī)

OAI 200 型掩模對(duì)準(zhǔn)器和紫外曝光系統(tǒng)是一款高性價(jià)比的高性能工具，其采用了行業(yè)模塊化組件，這使得 OAI 在微機(jī)電系統(tǒng)（MEMS）、納米技術(shù)和半導(dǎo)體設(shè)備行業(yè)處于優(yōu)勢(shì)地位。200 型是一款臺(tái)式設(shè)備，所需潔凈室空間極小。它為研發(fā)、中試或小批量生產(chǎn)提供了經(jīng)濟(jì)實(shí)惠的選擇。該系統(tǒng)采用創(chuàng)新的氣浮 / 真空吸盤(pán)調(diào)平系統(tǒng)，能快速、輕柔地對(duì)基板進(jìn)行調(diào)平，確保在接觸曝光過(guò)程中，光刻掩模與晶圓平行對(duì)準(zhǔn)且全面均勻接觸。該系統(tǒng)可實(shí)現(xiàn)微米級(jí)分辨率和對(duì)準(zhǔn)精度。對(duì)準(zhǔn)模塊配備了掩模插入組和快換式晶圓吸盤(pán)，無(wú)需工具重新配置，即可使用多種基板和掩模。對(duì)準(zhǔn)模塊集成了用于 X、Y 和 θ 軸的千分尺。200 型對(duì)準(zhǔn)器可配備多種對(duì)準(zhǔn)光學(xué)器件，包括背面紅外（IR）對(duì)準(zhǔn)器件。紅外照明真空吸盤(pán)可配置用于整片晶圓或晶圓碎片的對(duì)準(zhǔn)。OAI 200 型可配置 OAI 納米壓印模塊，使其成為市面上低成本的納米壓?。∟IL）工具。OAI 還提供一種模塊，專(zhuān)為使用液態(tài)光聚合物快速原型制作或生產(chǎn)微流控器件而設(shè)計(jì)。

200 型配備了可靠的 OAI 光源，使用功率范圍為 200 至 2000 瓦的燈，可提供近紫外或深紫外的準(zhǔn)直紫外光。雙傳感器光學(xué)反饋回路與恒定強(qiáng)度控制器相連，將曝光強(qiáng)度控制在所需強(qiáng)度的 ±2% 以內(nèi)。紫外波長(zhǎng)的更換快速便捷。200 型是適用于任何入門(mén)級(jí)掩模對(duì)準(zhǔn)和紫外曝光應(yīng)用的高靈活性、經(jīng)濟(jì)型解決方案。

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應(yīng)用領(lǐng)域

微機(jī)電系統(tǒng)（MEMS）
納米壓?。∟IL）
微流控技術(shù)
納米技術(shù)
II-VI 及 III-V 族器件制造
多層光刻膠處理
液晶顯示器（LCD）和場(chǎng)發(fā)射顯示器（FED）
多芯片模塊（MCM’s）
薄膜器件
太陽(yáng)能電池
聲表面波器件（SAW devices）

選項(xiàng)

可配備單攝像頭和單屏幕，或雙攝像頭和雙屏幕（照片中顯示的是雙攝像頭/雙屏幕版本）可加裝用于納米壓印（NIL）的納米壓印模塊可加裝用于微流控技術(shù)的模塊

特點(diǎn)

占地面積小

真空吸盤(pán)

精密對(duì)準(zhǔn)模塊

可互換的掩模支架和基板吸盤(pán)

優(yōu)勢(shì)

所需潔凈室空間極小對(duì)易碎基板材料的損傷極小對(duì)準(zhǔn)精度可達(dá)1微米可輕松適配多種基板和掩模紅外透明晶圓的背面掩模對(duì)準(zhǔn)精度可達(dá)3-5微米紫外光具有高準(zhǔn)直性和均勻性可快速更換紫外光波長(zhǎng)曝光強(qiáng)度控制在±2%以內(nèi)可配置為用于納米壓?。∟IL）的納米壓印工具可配置微流控模塊

Model 200 紫外掩膜曝光機(jī)