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化工儀器網(wǎng)>產(chǎn)品展廳>半導(dǎo)體行業(yè)專(zhuān)用儀器>光刻及涂膠顯影設(shè)備>有掩模光刻機(jī)> Model 6000 生產(chǎn)型掩膜曝光機(jī)

Model 6000 生產(chǎn)型掩膜曝光機(jī)

具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
產(chǎn)品標(biāo)簽

OAI光刻機(jī)掩膜曝光機(jī)

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FIRSTNANO成立于2012年,一家由三位材料學(xué)博士共同創(chuàng)辦的德國(guó)公司。基于 Science is international”的想法,“全球協(xié)同實(shí)驗(yàn)室”成為三位博士追逐的夢(mèng)想。

公司愿景是從科學(xué)家到科學(xué)家,科學(xué)開(kāi)創(chuàng)美好未來(lái)。

FIRSTNANO深耕于半導(dǎo)體技術(shù)、材料科學(xué)、生命科學(xué)等科研領(lǐng)域,始終秉承“前沿、專(zhuān)業(yè)、科學(xué)”的宗旨,將前沿技術(shù)引進(jìn)到協(xié)同實(shí)驗(yàn)室。我們的產(chǎn)品覆蓋了微納加工制程;材料科學(xué)的檢測(cè)、分析;生命科學(xué)成像,腦科學(xué)與行為認(rèn)知等相關(guān)領(lǐng)域。作為全球科技前沿的儀器供應(yīng)商,FIRSTNANO具有全球技術(shù)視野、優(yōu)質(zhì)供應(yīng)體系、以及嚴(yán)格的質(zhì)量管控系統(tǒng),能為客戶(hù)提供前沿的技術(shù)解決方案。

公司服務(wù)的客戶(hù)領(lǐng)域廣泛,其中包括消費(fèi)電子、航空、航天、醫(yī)藥技術(shù)、半導(dǎo)體行業(yè)、光電子行業(yè)、高校和研究機(jī)構(gòu)。

在成長(zhǎng)的過(guò)程中,我們腳踏實(shí)地、奮勇向前。自2015年香港(中華區(qū))公司成立以來(lái),我們一相繼在香港、深圳、上海和武漢設(shè)立了分支機(jī)構(gòu)。

我們真誠(chéng)邀請(qǐng)業(yè)內(nèi)英才加入FIRSTNANO TEAM,一起為夢(mèng)想揚(yáng)帆起航!

 

 

 

 

 

半導(dǎo)體儀器和電子產(chǎn)品耗材耗材

Model 6000 生產(chǎn)型掩膜曝光機(jī)

Model 6000 生產(chǎn)型掩膜曝光機(jī)

在半導(dǎo)體行業(yè)擁有超過(guò) 40 年的制造經(jīng)驗(yàn),OAI 憑借全新精英級(jí)生產(chǎn)型光刻設(shè)備,從容應(yīng)對(duì)瞬息萬(wàn)變的市場(chǎng)所帶來(lái)的日益嚴(yán)峻的挑戰(zhàn)。6000 系列基于經(jīng)過(guò)驗(yàn)證的 OAI 模塊化平臺(tái)打造而成,是一套全自動(dòng)盒對(duì)盒系統(tǒng),具備亞微米分辨率,其性能在同價(jià)位設(shè)備中很高。


該對(duì)準(zhǔn)器配備優(yōu)良的光束光學(xué)系統(tǒng),均勻性?xún)?yōu)于 ±3%,且在首掩模模式下的吞吐量可達(dá) 200 片晶圓 / 小時(shí),從而顯著提高良率。


6000 型設(shè)備能夠處理多種類(lèi)型的晶圓,包括厚基板、鍵合基板(厚度可達(dá) 7000 微米)、翹曲晶圓(翹曲度可達(dá) 7 毫米 - 10 毫米)、薄基板(厚度低至 100 微米)以及厚光刻膠。


憑借工藝重復(fù)性,6000 型設(shè)備成為各類(lèi)生產(chǎn)環(huán)境的理想解決方案??蛇x擇正面對(duì)準(zhǔn),或選裝背面對(duì)準(zhǔn) —— 背面對(duì)準(zhǔn)采用康耐視(Cognex™)M 圖案識(shí)別軟件與 OAI 的圖案輔助軟件,這款軟件能進(jìn)一步提升整體吞吐量。在整個(gè)光刻流程中,6000 型設(shè)備可與集群工具實(shí)現(xiàn)無(wú)縫集成。OAI 全新的生產(chǎn)型掩模對(duì)準(zhǔn)器堪稱(chēng)一站式解決方案。


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高度優(yōu)化的產(chǎn)能
首掩模模式下可達(dá) 200 片 / 小時(shí)(WPH)


優(yōu)良的光束光學(xué)系統(tǒng)
均勻性?xún)?yōu)于 ±3%


豐富的晶圓處理能力
包括厚基板、鍵合基板及翹曲基板


楔效應(yīng)調(diào)平

工藝重復(fù)性

亞微米分辨率

遠(yuǎn)程診斷功能


Model 6000 生產(chǎn)型掩膜曝光機(jī)

Model 6000 生產(chǎn)型掩膜曝光機(jī)規(guī)格參數(shù)


曝光系統(tǒng)

Model 6000 生產(chǎn)型掩膜曝光機(jī)

優(yōu)良光束光學(xué)系統(tǒng)

Model 6000 生產(chǎn)型掩膜曝光機(jī)

對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)

Model 6000 生產(chǎn)型掩膜曝光機(jī)


晶圓處理

Model 6000 生產(chǎn)型掩膜曝光機(jī)


可選配置

紅外自動(dòng)對(duì)準(zhǔn)

晶圓盒映射

紫外 LED 曝光光源

溫控晶圓卡盤(pán)

集成掩模管理控制

集成光刻集群用于完整光刻流程

帶 SMIF 或 FOUP 接口模塊的工藝環(huán)境控制

非接觸式調(diào)平

邊緣夾持

激光間隙測(cè)量





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