化工儀器網(wǎng)>產(chǎn)品展廳>半導(dǎo)體行業(yè)專(zhuān)用儀器>光刻及涂膠顯影設(shè)備>有掩模光刻機(jī)> Model 6000 生產(chǎn)型掩膜曝光機(jī)
Model 6000 生產(chǎn)型掩膜曝光機(jī)
- 公司名稱(chēng) 德國(guó)韋氏納米系統(tǒng)有限公司
- 品牌 OAI
- 型號(hào)
- 產(chǎn)地 美國(guó)
- 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)廠家
- 更新時(shí)間 2025/7/4 10:46:38
- 訪問(wèn)次數(shù) 74
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Model 6000 生產(chǎn)型掩膜曝光機(jī)
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楔效應(yīng)調(diào)平
工藝重復(fù)性
亞微米分辨率
遠(yuǎn)程診斷功能
Model 6000 生產(chǎn)型掩膜曝光機(jī)規(guī)格參數(shù)
曝光系統(tǒng)
優(yōu)良光束光學(xué)系統(tǒng)
對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)
晶圓處理
可選配置
紅外自動(dòng)對(duì)準(zhǔn)
晶圓盒映射
紫外 LED 曝光光源
溫控晶圓卡盤(pán)
集成掩模管理控制
集成光刻集群用于完整光刻流程
帶 SMIF 或 FOUP 接口模塊的工藝環(huán)境控制
非接觸式調(diào)平
邊緣夾持
激光間隙測(cè)量