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MIKASA米卡薩旋轉(zhuǎn)涂布機 MS-B150
MIKASA米卡薩旋轉(zhuǎn)涂布機 MS-B150
日本MIKASA米卡薩株式會社日本MIKASA株式會社中國代理: MIKASA光刻機.旋轉(zhuǎn)塗鈽機，真空泵日本MIKASA株式會社中國代理: MIKASA光刻機.旋轉(zhuǎn)塗怖機，真空泵日本MIKASA株式會社中國代理: MIKASA光刻機.旋轉(zhuǎn)塗鈽機，真空泵半導體制造工序中的Mikasa半導體設備

　　晶園、洗滌**晶園表面的臟污及

　　各種金屬離子、成膜

　　在高溫擴散爐中，形成、表面氧化膜

　　電路圖案設計、運用CAD制作布局、布線

　　設計圖。制作光掩膜

　　將電路圖案沖印到中間掩、模上(原版照片)

　　光刻膠涂布、將光刻膠(感光材料)涂抹到晶

　　圓表面，形成厚度均一的薄膜。

　　旋轉(zhuǎn)涂膜儀(P4~P11) 將光掩膜與晶園重合，復制電路

　　圖案。

　　光刻機(P13~P15)

　　MIKASA米卡薩旋轉(zhuǎn)涂布機可選組件

　　顯影、去除曝光部位(正膠)的光刻膠。

　　顯影裝置(P17. 18)、蝕刻

　　通過腐蝕氧化膜來蝕刻電路。

　　蝕刻裝置(P19)

　　離子注入/濺射

　　向晶園注入離子(混雜物)

　　滴液裝置可選組件吸盤

　　●MS-B100/ MS-B150

　　●MS-B200

　　●MS-B300

　　●MS-B200 (密閉型)

　　●MS-B300 (密閉型)

　　日本MIKASA光刻機

　　MA-10

　　●MA-20

　　●MA-60F

　　●M-2LF

　　●M-1S

　　日本MIKASA曝光，將光掩膜與晶園重合，復制電路圖案。

　　日本MIKASA顯影、蝕刻裝置DeveloperEtching

　　日本MIKASA旋轉(zhuǎn)涂布機MS-A150/MS-B150現(xiàn)貨現(xiàn)貨旋轉(zhuǎn)涂膜儀

　　去除曝光部位(正膠)的光刻膠。

　　●AD-1200

　　●AD-3000

　　●PD-1000

　　日本MIKASA蝕刻裝置

　　蝕刻裝置

　　●ED-1200

　　●ED-3000

　　日本Mikasa為半導體制造工序提供支持的Mikasa備齊光刻膠涂布、曝光、顯影、蝕刻等半導體制造前段工序所需要的裝置后，提供一站式服務。另外，為旋轉(zhuǎn)涂膜儀的所有機型準備了替代用機，可在發(fā)生故障時盡早應對，且在銷售后提供快捷周到的售后服務。針對研究過程中所發(fā)生的一系列問題，也可在現(xiàn)場提出解決建議。與客戶共同探討在哪個工序出現(xiàn)了問題、應如何改進等等，從而得出解決建議。Mikasa 作為一個可在半導體方面進行共同商談的咨詢顧問不僅銷售設備，而是為客戶半導體制造的整體工藝流程。將光刻膠(感光材料)涂抹到晶圓表面，形成厚度均一的薄膜。

　　日本Mikasa為半導體制造工序提供支持的Mikasa備齊光刻膠涂布、曝光、顯影、蝕刻等半導體制造前段工序所需要的裝置后，晶圓涂抹提供一站式服務。

　　日本Mikasa 半導體用設備旋涂機

　　MS-B100

　　MS-B150

　　MS-B200

　　MS-B300

　　MS-B200

　　密閉型MS-B300

　　密閉型MA-20

　　MA-10B

　　MA-60F

　　M-2LF

　　M-1S

　　AD-1200

　　AD-3000

　　ED-1200

　　各類日系工業(yè)品:,SSD西西蒂(離子風扇)、AND愛安得(電子天平)、SAN-EI三英(點膠閥) HOYA光源,KURABO脫泡機,USHIO牛尾照度計,Tsubosaka壺坂電機,IMV愛睦威,PISCO匹士克接頭,hakko八光電機,lambda拉姆達膜厚儀,MUSASHI武藏,SAKURAI櫻井,aitec艾泰克,otsuka大塚(膜厚儀、粒度儀),Hitachi日立(掃描電鏡),MIKASA米卡薩(旋涂設備、顯影)、POLARION普拉瑞、AITEC艾泰克(檢查光源)、Iwasaki巖崎、OTSUKA大塚電子(光學膜厚儀)、KOSAKA小坂(臺階儀)、HORIBA堀場儀器(分析儀)、SIBATA柴田科學(環(huán)境測定)、TORAY東麗濃度儀(氧氣分析儀)、yamada山田鹵素強光燈、CEDAR思達。