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動態(tài)光散射較優(yōu)擬合累積分析法

來源:澳譜特科技(上海)有限公司   2023年05月08日 15:11  

  動態(tài)光散射是測量納米顆粒大小的有效方法,但使用線性累積分析法反演的顆粒直徑受數據點長度的影響較大,數據點長度不同,擬合結果也不同。針對線性累積分析法的缺點,對比分析了線性和非線性累積分析法,并結合兩者的優(yōu)點提出較優(yōu)擬合累積分析法。此算法由一階曲線擬合反演顆粒的直徑,并與一階多項式擬合結果對比,獲得光強自相關函數的較優(yōu)線性擬合長度,然后由二階多項式擬合反演顆粒的多分散系數。理論分析與實驗數據表明:較優(yōu)擬合累積分析法反演的顆粒直徑相對誤差和重復性均小于2%,多分散系數相對誤差小于6%,因此利用較優(yōu)擬合累積分析法可獲得穩(wěn)定、可靠的顆粒直徑及其多分散系數。







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