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探索鍍金鍍碳一體機在電子、光學領(lǐng)域的創(chuàng)新應(yīng)用

來源:北京格微儀器有限公司   2025年07月10日 14:04  
  鍍金鍍碳一體機是一種集成了氣相沉積(PVD)與等離子體增強化學氣相沉積(PECVD)技術(shù)的創(chuàng)新設(shè)備,能夠在同一次工藝過程中實現(xiàn)金屬鍍層(如金、銅)與非金屬涂層(如類金剛石碳膜DLC)的復(fù)合沉積。這種技術(shù)突破了傳統(tǒng)分步鍍膜的局限,在電子、光學等領(lǐng)域展現(xiàn)出獨特的應(yīng)用價值。
  鍍金鍍碳一體機在電子領(lǐng)域的創(chuàng)新應(yīng)用:
  1. 高頻高速電路板
  問題:傳統(tǒng)銅鍍層在高頻下?lián)p耗大,且表面易氧化導致接觸電阻升高。
  解決方案:
  鍍金層:作為導電層,降低信號傳輸損耗。
  鍍碳層:在金層上沉積DLC保護膜,防止氧化并增強耐磨性。
 
  2. 芯片互連與封裝
  TSV(硅通孔)填充:
  在硅孔內(nèi)壁先鍍銅(導電層),再鍍DLC(絕緣層),實現(xiàn)高密度三維封裝。
  優(yōu)勢:銅層電阻低(<10mΩ/μm),DLC層漏電流<1nA(傳統(tǒng)聚酰亞胺易吸濕失效)。
  MEMS傳感器防護:
  在諧振器或壓力傳感器表面鍍金(導電電極)+ DLC(防潮屏障),提升長期穩(wěn)定性。
  3. 微型電子器件
  柔性電子:
  在PI薄膜上鍍金(導電線路)+ DLC(耐磨防刮擦層),彎曲半徑<1mm時仍保持導電性。
  歐姆接觸優(yōu)化:
  半導體器件的金屬電極先鍍鈦/鋁過渡層,再鍍金層,最后覆蓋DLC保護層,接觸電阻降低。
  鍍金鍍碳一體機在光學領(lǐng)域的創(chuàng)新應(yīng)用:
  1. 紅外光學器件
  紅外窗口片:
  在鍺(Ge)或硫化鋅(ZnS)基底上鍍金(反射紅外光)+ DLC(防水防污層),角度不敏感性。
  紅外濾光片:
  通過調(diào)節(jié)DLC層厚度控制紅外波段的透過率,同時金層抑制雜散光。
  2. 光伏與照明
  鈣鈦礦太陽能電池:
  在透明導電電極(ITO)上鍍金(降低電阻)+ DLC(鈍化層),提升載流子提取效率(效率提升2%-3%)。
  LED封裝:
  芯片表面鍍DLC(散熱層,熱導率>2W/m·K)后鍍金(反射層),光輸出效率提高15%。
  3. 光學鍍膜替代方案
  傳統(tǒng)多層膜替代:
  單層金碳復(fù)合鍍層可替代傳統(tǒng)的銀/介質(zhì)多層窄帶通濾光膜,角度不敏感性提升50%。
  抗激光損傷涂層:
  高功率激光器窗口片鍍DLC+ 金層(反射殘余光線),壽命延長3倍。
 

 

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