1.產(chǎn)品概述：

NEXUSIBD-LDD是由VEECCO研發(fā)的離子束沉積設(shè)備，VEECCO憑借25年來在離子束產(chǎn)品域建立導地位，實現(xiàn)當下無缺陷的EUV掩?？瞻?/span>。

2.產(chǎn)品工藝：

光掩模制造需要高水平的顆?？刂?，同時沉積復雜的多層薄膜結(jié)構(gòu)。Veeco的NexusIBD-LDD離子束沉積系統(tǒng)可以應對這一挑戰(zhàn)。自1990年代以來，Veeco已成功服務于光掩模市場，多年的學習造就了當先進的系統(tǒng)。IBD-LDD系統(tǒng)是當EUV掩模坯料上的鉬（Mo）和硅（Si）多層沉積和釕（Ru）封端層沉積的理想選擇，以及其他需要低缺陷水平和先進薄膜的掩模應用。

3.產(chǎn)品優(yōu)勢：

經(jīng)過生產(chǎn)驗證的平臺

低的缺陷密度

優(yōu)異的均勻性和可重復性

高反射率

在同一腔室中沉積多種材料

可以集成到其他過程模塊中，集成到集群工具中