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邁可諾技術(shù)有限公司
主營(yíng)產(chǎn)品: 美國(guó)Laurell勻膠機(jī),WS1000濕法刻蝕機(jī),Cargille光學(xué)凝膠,EDC-650顯影機(jī),NOVASCAN紫外臭氧清洗機(jī) |
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更新時(shí)間:2025-07-02 15:01:14瀏覽次數(shù):193
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產(chǎn)品概述
mr-NIL210系列是一款專為軟紫外納米壓印技術(shù)(soft UV-NIL)設(shè)計(jì)的光固化納米壓印膠,特別適配于PDMS類軟質(zhì)印章材料(推薦使用Shin-Etsu的KER-4690 PDMS印章)。其高精度、易操作的特性,使其成為圖案轉(zhuǎn)移工藝中理想的蝕刻掩模材料。
核心優(yōu)勢(shì)
1. 兼容性
l 適用于硅、二氧化硅、玻璃、藍(lán)寶石等多種基材,搭配專用底涂劑(如mr-APS1或Omnicoat)可進(jìn)一步提升附著力。
l 支持PDMS、PFPE等軟質(zhì)印章,以及硬質(zhì)聚合物印章(如OrmoStamp®),滿足多樣化工藝需求。
2. 高效光固化性能
l 紫外光波段(320–420 nm)下快速固化,氧氣環(huán)境影響極低。
l 推薦曝光劑量>1 J/cm2,支持汞燈或UV-LED光源(365–405 nm),固化速度隨光強(qiáng)提升而加快。
3. 精準(zhǔn)的膜厚控制
l 提供100nm、200nm、500nm三種標(biāo)準(zhǔn)厚度型號(hào),旋涂工藝穩(wěn)定(3000 rpm,30秒),公差范圍小。
l 支持定制稀釋(推薦稀釋劑mr-T 1078),可靈活調(diào)整膜厚至更低范圍。
4. 工藝友好性
l 預(yù)烘條件溫和(60°C,3分鐘),減少溶劑殘留。
l 殘膠去除簡(jiǎn)便:氧氣等離子體或濕法剝離(如piranha溶液)均可高效清除。
5. 高可靠性
l 無(wú)硅純有機(jī)成分,固化后形成熱固性聚合物網(wǎng)絡(luò),穩(wěn)定性強(qiáng)。
l 存儲(chǔ)方便(15–25°C),保質(zhì)期6個(gè)月。
典型應(yīng)用場(chǎng)景
l 半導(dǎo)體器件制造:高分辨率圖案轉(zhuǎn)移,適用于納米級(jí)結(jié)構(gòu)蝕刻。
l 光學(xué)元件加工:藍(lán)寶石等硬質(zhì)基材上的微納結(jié)構(gòu)制備。
l 科研與教育:軟UV-NIL技術(shù)研究及原型開(kāi)發(fā)。
技術(shù)參數(shù)速覽
特性 | mr-NIL210-100nm | mr-NIL210-200nm | mr-NIL210-500nm |
膜厚(nm) | 100 ± 15 | 200 ± 20 | 500 ± 25 |
動(dòng)態(tài)粘度(mPa·s) | 1.4 ± 0.2 | 1.7 ± 0.2 | 2.9 ± 0.5 |
折射率(589 nm) | 1.515 ± 0.002 | 1.515 ± 0.002 | 1.517 ± 0.002 |