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邁可諾技術(shù)有限公司

主營產(chǎn)品: 美國Laurell勻膠機(jī),WS1000濕法刻蝕機(jī),Cargille光學(xué)凝膠,EDC-650顯影機(jī),NOVASCAN紫外臭氧清洗機(jī)

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公司信息

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鄧經(jīng)理
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4008800298
機(jī):
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址:
洪山區(qū)珞獅南路147號未來城A棟
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mr-NIL212FC德國納米壓印光刻膠
德國納米壓印光刻膠
參考價 面議
具體成交價以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 型號 mr-NIL212FC
  • 品牌 Micro Resist
  • 廠商性質(zhì) 代理商
  • 所在地 武漢市

更新時間:2025-07-02 15:14:59瀏覽次數(shù):147

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【簡單介紹】
高分辨率:支持 <100 nm 結(jié)構(gòu)壓印(如mr-NIL212FC可實現(xiàn)200nm柱陣列)。
量產(chǎn)適配:
UV-NIL:室溫低壓(<100 mbar),適合大面積和連續(xù)生產(chǎn)(R2R)。
T-NIL:熱塑性/熱固性 可選,平衡效率與穩(wěn)定性。
工藝靈活性:
可搭配 LOR 光刻膠實現(xiàn)金屬納米結(jié)構(gòu)剝離(Lift-off)。
通過 SiPOL 硅含量樹脂實現(xiàn)圖案放大,用于深槽刻蝕。
【詳細(xì)說明】

納米壓印光刻 (NIL) 解決方案——高性能光刻膠,助力納米制造革命

——來自德國 micro resist technology,納米壓印光刻材料的行業(yè)先驅(qū)



核心優(yōu)勢

? Excellence的薄膜質(zhì)量 | ? 高保真圖案復(fù)制 | ? 優(yōu)異的干法刻蝕性能
? 廣泛的印章兼容性 | ? 定制化解決方案 | ? 符合工業(yè)級安全標(biāo)準(zhǔn)(ISO 9001 & 14001)

應(yīng)用領(lǐng)域

l光子學(xué)(超表面、光柵、AR/VR)

l下一代電子器件(納米線、MEMS)

l生命科學(xué)與傳感器(微流控芯片、生物傳感器)


明星產(chǎn)品系列

1. UV-NIL 光刻膠

產(chǎn)品型號

核心特性

適用場景

mr-NIL210

專為 PDMS 類柔性印章優(yōu)化,極薄殘膠控制(<10nm),高均勻性

柔性基底、曲面壓印、快速量產(chǎn)

mr-NIL212FC

兼容低強(qiáng)度光源(<40>2(SiO?),適合精密金屬蝕刻

納米電子、金屬納米結(jié)構(gòu)制造

mr-NIL200

自粘附配方,無需底涂,專為硬質(zhì)印章(石英/OrmoStamp®)設(shè)計

高精度光學(xué)元件、硬質(zhì)基底壓印

mr-UVCuF26SF

溶劑型噴墨專用,低自發(fā)熒光,生物相容性佳

生物芯片、醫(yī)療器件

2.



2.



熱壓?。═-NIL)光刻膠

| mr-I 9000M | 熱固性樹脂,無玻璃化轉(zhuǎn)變溫度(Tg),耐高溫 260°C,yongjiu光學(xué)透明 | 高溫環(huán)境應(yīng)用(如封裝、光學(xué)透鏡) |
| mr-I T85 | 基于 COC 材料,耐酸堿/有機(jī)溶劑,超高紫外透過率 | 微流控芯片、透明器件 |

3. 創(chuàng)新工藝方案

NIL + 剝離工藝:結(jié)合 mr-NIL212FC/LOR 實現(xiàn)復(fù)雜金屬納米結(jié)構(gòu)(如 200nm 金屬網(wǎng)格)。

NIL + 深度刻蝕:通過含硅光刻膠 SiPOL 或硬掩模(SiO?)實現(xiàn)高深寬比結(jié)構(gòu)放大。





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