目錄:國創(chuàng)科學(xué)儀器(蘇州)有限公司>>X射線吸收譜儀>> SuperXAFS H3000通用型X射線吸收譜儀
應(yīng)用領(lǐng)域 | 化工,綜合 |
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國創(chuàng)科儀 通用型X射線吸收譜儀SuperXAFS H3000
核心參數(shù)
1.工作模式:支持近邊快掃功能;支持透射/熒光模式吸收譜
2.能量范圍:4.5-20keV
3.樣品處光通量:≥1×10? photons/s @7-9keV
4.能量分辨率:0.5-1.5eV@7-9keV
5.能量重復(fù)性:≤30meV@24h
6.調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)精度:能量掃描最小步長 0.1eV
國創(chuàng)科儀 通用型X射線吸收譜儀SuperXAFS H3000
X射線吸收精細(xì)結(jié)構(gòu)譜儀(XAFS/XES)是一種用于研究材料局部結(jié)構(gòu)和電子狀態(tài)的非破壞性技術(shù)。該技術(shù)利用 X 射線與物質(zhì)的相互作用,獲取指定元素的近邊吸收譜(XANES)、擴(kuò)展遠(yuǎn)邊吸收譜(EXAFS)和特定能帶發(fā)射譜,分別用于分析元素的化學(xué)狀態(tài)和價(jià)態(tài)、原子周圍局部環(huán)境的配位結(jié)構(gòu),以及甄別測量元素的配位原子類別,是表征晶態(tài)和非晶態(tài)材料微觀配位結(jié)構(gòu)的重要手段。XAFS/XES主要應(yīng)用于催化劑 、合金、陶瓷、環(huán)境污染物、各類晶態(tài)和非晶態(tài)材料及生物樣品內(nèi)金屬離子的價(jià)態(tài)、配位結(jié)構(gòu)及電子狀態(tài)分析,以及材料局部結(jié)構(gòu)在熱場、光場、電場和磁場變化下的局部結(jié)構(gòu)動態(tài)演化過程研究等。
X 射線吸收譜儀的應(yīng)用領(lǐng)域
催化劑研究
分析催化劑活性中心的金屬價(jià)態(tài)(如 Pt²?/Pt?)、配位環(huán)境及原子間距,揭示催化反應(yīng)機(jī)理(如燃料電池催化劑的氧還原活性)。
跟蹤催化劑在反應(yīng)中的結(jié)構(gòu)演變(如 CO 氧化反應(yīng)中 Cu 基催化劑的價(jià)態(tài)變化)。
納米材料表征
測定納米顆粒(如量子點(diǎn)、納米氧化物)的表面原子配位和缺陷濃度(如 TiO?納米管中的氧空位)。
研究納米復(fù)合材料的界面電子結(jié)構(gòu)(如石墨烯 - 金屬納米顆粒的電荷轉(zhuǎn)移)。
功能材料分析
探測電池電極材料(如 LiCoO?)的鋰嵌入 / 脫出過程中元素價(jià)態(tài)變化,優(yōu)化電池性能。
分析磁性材料(如 Fe?O?)的局域磁環(huán)境,解釋磁有序機(jī)制。
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