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RIE-230iP等離子體(ICP)刻蝕設(shè)備PX 1950
RIE-230iPC等離子體(ICP) 刻蝕設(shè)備PX 1950
RIE-400iP等離子體(ICP)刻蝕設(shè)備PX 1950
RIE-350iPC等離子體(ICP)刻蝕設(shè)備PX 1950
RIE-800iPC等離子體刻蝕設(shè)備PX 1950
customized多腔等離子體工藝系統(tǒng)PX 1950
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RIE200/Plus反應(yīng)離子刻蝕機PX 1950
customized晶圓甩干機PX 1950
customizedCMP后清洗機PX 1950
customized-14深硅刻蝕系統(tǒng)DEEP SI ETCHPX 1950
Ionfab 300 IBE離子束刻蝕系統(tǒng)IBEPX 1950
customized-12反應(yīng)性離子刻蝕系統(tǒng)RIEPX 1950
森泰克感應(yīng)耦合等離子刻蝕機SI 500PX 1757
CGST3100全自動去膠機PX 1800
CG-P系列等離子清洗機PX 1800
干式超聲波清洗機PX 0
FPTOR-ICPRIE-ICP-RIE感應(yīng)耦合反應(yīng)離子刻蝕系統(tǒng)PX 3044
FPSEM-icp200e-ICPVCD電感耦合等離子體化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)PX 3044
Wintech ICP-200微蕓電感耦合等離子體刻蝕機PX 0
Wintech CCP-200微蕓電容耦合等離子體刻蝕機PX 0
60升干法清洗設(shè)備等離子清洗活化設(shè)備PX 0
FPESI-E3611離子體灰化蝕刻系統(tǒng)PX 3044
DISC-ICP-601/801/1201/感應(yīng)耦合等離子體刻蝕機(ICP)PX 0
DISC-RIE-601/801/1201反應(yīng)離子刻蝕機(RIE)PX 0
DISC-IBE-150C/200C離子束刻蝕機(IBE)PX 0
SAT 100等離子清洗機廠家PX 0
SAT 210等離子清洗機PX 0
SAT 320賽奧特(SAT)粉末/粉體/顆粒等離子處理PX 0
ZHENHUA震華真空等離子清洗機干法清洗環(huán)保工藝PX 0
PM-20LN普樂斯 20L實驗型真空等離子清洗機PX 0
SAT-5D(MFC)內(nèi)置MFC等離子清洗機PX 0
線性寬幅等離子清洗系統(tǒng)PX 0
全自動微波等離子清洗系統(tǒng)PX 0
SAT 510等離子刻蝕PX 0
SAT 620等離子灰化PX 0
RIE-10NR日本SAMCO RIE等離子蝕刻設(shè)備PX 2835
VPC-500F8普樂斯半導(dǎo)體封裝等離子清洗機PX 0
離子污染度測試儀系統(tǒng)PX 2233
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薄膜生長設(shè)備
工藝測量和檢測設(shè)備
集成電路測試與分選設(shè)備
光刻及涂膠顯影設(shè)備
熱工藝設(shè)備/熱處理設(shè)備
硅片制備/晶體生長設(shè)備
掩模版和中間掩模版制造設(shè)備
離子注入設(shè)備
干法工藝設(shè)備
濕法工藝設(shè)備
組裝與封裝設(shè)備
其它半導(dǎo)體行業(yè)儀器設(shè)備
Ion Source離子源
Gas Mixers氣體混配器
TEM cube多用途樣品清潔及儲存腔室
TEM 樣品架真空泵站
SEMI-KLEEN UHV等離子體清洗機
Semi-KLEEN Sapphire藍(lán)寶石等離子體清洗機
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等離子體刻蝕機
Tergeo桌面等離子清洗機
大氣常壓等離子處理機器
過程臭氧分析儀半導(dǎo)體干法清洗設(shè)備專用
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上海平軒科學(xué)儀器有限公司
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