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DZ350高真空有機及熱阻蒸發(fā)薄膜沉積系統(tǒng)PX 1950
LMBE450超高真空激光分子束外延薄膜沉積系統(tǒng)PX 1950
JGP560高真空磁控濺射薄膜沉積系統(tǒng)PX 1950
JGP450高真空磁控濺射薄膜沉積系統(tǒng)PX 1950
PC450高真空磁控濺射粉末顆粒表面薄膜沉積系統(tǒng)PX 1950
TRP450高真空磁控濺射薄膜沉積系統(tǒng)PX 1950
AT-200M桌面原子層沉積系統(tǒng)ALDPX 1782
線列式磁控濺射薄膜沉積系統(tǒng)PX 1950
SMART磁控濺射薄膜沉積系統(tǒng)PX 1950
PVD500高真空磁控濺射薄膜沉積系統(tǒng)PX 1950
AT 200M臺式原子層沉積系統(tǒng)-可放入手套箱PX 1782
PVD400高真空磁控濺射薄膜沉積系統(tǒng)PX 1950
SENTECH SILAYOPEARD系統(tǒng)PX 1950
SI PEALDPEALD 系統(tǒng)PX 1950
SI 500 DICPECVD 系統(tǒng)PX 1950
PlasmaPro 100 Nano等離子增強化學(xué)氣相沉積PX 1950
FlexAL原子層沉積(ALD)PX 1950
PlasmaPro 80ICPCVDPX 1950
PD-100ST等離子體增強CVD系統(tǒng)PX 1950
PD-330STC等離子體增強CVD系統(tǒng)PX 1950
PD-270STLC等離子體增強CVD系統(tǒng)PX 1950
PD-200STL等離子體增強型CVD系統(tǒng)PX 1950
PD-220N化學(xué)氣相沉積等離子體CVD系統(tǒng)PX 1950
PD-3800L化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)PX 1950
PD-220NL化學(xué)氣相沉積 (PECVD) 系統(tǒng)PX 1950
AL-1無針孔薄膜沉積設(shè)備PX 1950
PD-2201LC化學(xué)氣相沉積 (PECVD) 設(shè)備PX 1950
Orion Proxima高密度等離子體化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)PX 1950
Polaris系列12英寸通用物理氣相沉積系統(tǒng)PX 1950
Polaris系列8英寸 通用物理氣相沉積系統(tǒng)PX 1950
eVictor Al PVD鋁物理氣相沉積系統(tǒng)PX 1950
HORIC L200 系列臥式 LPCVD 氣相沉積系統(tǒng)PX 1950
Scaler HK430熱原子層沉積系統(tǒng)PX 1950
EPEE系列等離子化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)PX 1950
eVictor系列8英寸通用物理氣相沉積系統(tǒng)PX 1950
MARS iCE120多片碳化硅外延系統(tǒng)PX 1950
MARS iCE115碳化硅外延系統(tǒng)PX 1950
Satur系列多片式MOCVD系統(tǒng)PX 1950
Hesper I E430R12英寸單片減壓硅外延系統(tǒng)PX 1950
Hesper E230A12英寸單片常壓硅外延系統(tǒng)PX 1950
薄膜生長設(shè)備
工藝測量和檢測設(shè)備
集成電路測試與分選設(shè)備
光刻及涂膠顯影設(shè)備
熱工藝設(shè)備/熱處理設(shè)備
硅片制備/晶體生長設(shè)備
掩模版和中間掩模版制造設(shè)備
離子注入設(shè)備
干法工藝設(shè)備
濕法工藝設(shè)備
組裝與封裝設(shè)備
其它半導(dǎo)體行業(yè)儀器設(shè)備
等離子Parylene派瑞林鍍膜集成系統(tǒng)
旋轉(zhuǎn)鼓式parylene派瑞林真空鍍膜設(shè)備
進口parylene派瑞林鍍膜設(shè)備
派瑞林parylene真空鍍膜設(shè)備
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Parylene派瑞林真空鍍膜機
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Parylene派瑞林鍍膜設(shè)備
原子層沉積系統(tǒng)
真空等離子體涂覆薄膜沉積設(shè)備
日本ULVAC愛發(fā)科半導(dǎo)體化學(xué)氣相沉積設(shè)備
等離子增加化學(xué)氣相沉積CVD系統(tǒng)
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